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随机误差是误差理论中的主要研究对象

误差只要操作人员认真细致地工作和加强校对即可避免，有时可采用某些准则来。从以上讨论可知，系统误差和粗大误差是可以设法的。由于理论上及仪器方法上所造成的系统误差往往超过随机误差许多倍，所以首先应该系统误差。随机误差是由于暂时未能掌握的某些因素造成的。如外界环境发生微小变化，装置中清理油罐零件配合不稳定，操作人员读数不稳定等。随机误差是误差理论中的主要研究对象误差的表示方法误差的表示方法有下列几种误差与相对误差。测量值与真值之差的值称为测量值的误差。为了区别后面将要介绍的各种误差，称此误差为误差也就是说，算术平均值是大误差为。时之真值的近似值例已知炉中的温度不高于，不低于，试求其大误差与平解由式可得平均温度下+，大误差，可写成炉温±某些情况下，误差不能用来比较测量值之间误差的大小。譬如，测量电解槽中通过的电流值与测量半导体三管基的电流值时，误差均表示为毫安数量级。

化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义

化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量对实验结果有严重影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学***、生产工具和水可能成为***杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除***杂质，保持硅片表面清洁。

为了防止油品混合或污染,应采取以下措施

为了防止各种油品混合或污染，应采取以下措施：

为防止散装油品在卸、转、装、运过程中受到污染，所有管道和油泵应根据油品的不同性质分组，不同性质的油品不得混用。如果必须混合，应清洗管道中的剩余油，剩余油应通过真空泵抽取或在管道的低位置用过滤的压缩空气清洗。如果条件允许，也可以用蒸汽清洗，然后用待运输的油品清洗几分钟，释放油头。